日本に半導体研究開発拠点=先端設備導入、インテル協力―産総研
経済産業省所管の産業技術総合研究所(産総研)が、半導体製造装置と素材の研究開発拠点を国内に設ける方針であることが3日、分かった。回路線幅の微細化に必要な極端紫外線(EUV)露光装置を日本の研究機関として初めて導入する予定。米インテルから技術協力を受け、半導体産業の競争力向上を図る。
[時事通信社]
最新動画
最新ニュース
写真特集
-
【野球】慶応大の4番打者・清原正吾
-
【競馬】女性騎手・藤田菜七子
-
日本人メダリスト〔パリパラリンピック〕
-
【近代五種】佐藤大宗〔パリ五輪〕
-
【アーティスティックスイミング】日本代表〔パリ五輪〕
-
【ゴルフ】山下美夢有〔パリ五輪〕
-
閉会式〔パリ五輪〕
-
レスリング〔パリ五輪〕