経済産業省所管の産業技術総合研究所（産総研）が、半導体製造装置と素材の研究開発拠点を国内に設ける方針であることが３日、分かった。回路線幅の微細化に必要な極端紫外線（ＥＵＶ）露光装置を日本の研究機関として初めて導入する予定。米インテルから技術協力を受け、半導体産業の競争力向上を図る。　
［時事通信社］

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